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西湖大学冰刻技术曝光!能够取代光刻机了

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西湖大学冰刻技术曝光!能够取代光刻机了

今天跟大家聊一聊:西湖大学冰刻技术曝光,能够取代光刻机了?国产芯片或将迎来全新契机。

近几年在华为的影响之下,国内的企业也明白了自主创新的重要性,都开始了技术创新的道路,中国的科技也迎来了飞速发展,华为经过多年的努力,终于在5G时代实现了对于通讯领域技术的反超,凭借着先进的5G技术和全球第一的专利数,站稳了通讯领域领头羊的位置。

而华为所取得的成就不止步于此,目前已经成为了全球第二大手机厂商,在2020年第二季度的手机销量位居全球第一,只可惜在芯片供应不足的情况下,逐渐跌到了第五的位置,华为在半导体领域的实力同样不可小觑,海思半导体此前就已经成为了全球十大半导体企业之一,麒麟芯片的诞生也让美国开始紧张了起来,开始想方设法限制华为的发展。

在相关限制之下,华为的芯片供应完全被切断了,尖端的麒麟芯片造不了,同样也买不到其它厂商高端的芯片,国产芯片的劣势首次被暴露的一览无遗,也彻底让我们明白了没有核心的技术,在未来将会走的越来越难。

目前摆在我们眼前最大的难题,就在于光刻机了,光刻机作为目前工业制造领域最复杂的组件,没有任何一个国家有能力独立生产,生产一台光刻机要集合世界上最顶尖的科技,目前只有荷兰的ASML公司有办法独立生产,美其名曰生产制造,其实更贴切的应该是组装工厂。

目前中科院也开始全力攻克对于光刻机的技术,华为也开始了对于芯片全产业链技术的研发,国内的半导体企业也已经开始发力了,目前在相关技术的攻克上,也已经取得了相当不错的成绩,而就在近期,中国首个研究型大学“西湖大学”传来了一个好消息,一个全新的芯片制造工艺诞生了。

制造芯片的全新技术

面对西方国家的“严防死守”,各个企业都在持续发力,就在近期位于浙江的“西湖大学”传来了一个好消息,他们研发出了足以替代光刻机的“冰刻”技术。

对于这么一个陌生的词汇,究竟隐藏了什么样的高科技呢?“冰刻”技术早就在2012年的时候就开始立项了,是由“西湖大学”的副校长仇旻教授海归之后组织团队建立的,这项技术和光刻技术有着本质的区别。

正如它的名字一样,“冰刻”需要在-140°的密闭真空环境下进行,主要利用水蒸气遇低温结冰的特性,快速在晶片上形成冰膜,最终利用到电子束在冰膜上进行刻录,最终形成三维的电路机结构,最后再进行填充步骤,最终放置在常温的环境进行挥发,一系列的步骤最终达成了芯片制造的整个过程。

根据可靠消息称,目前由“西湖大学”研发的冰刻技术,已经实现了在光纤末端做出相对复杂的微纳米级别的冰雕了,而且这项技术的产能也已经足够理想了,因此我们可以做出一个大胆的推测,这项技术在未来或将成为最有希望取代光刻机的技术。

冰刻技术具备什么优势

在“冰刻”技术曝光之后,很多人会很自然地拿来和“光刻”技术进行对比,那他们之间存在什么样的区别,“冰刻”技术都拥有什么样的优势呢?

有了解过芯片制造过程的人应该都知道,利用“光刻”技术制造芯片的过程中,需要用到一个很重要的材料光刻胶,需要把它均匀地涂抹到晶片上,无论是晶片的质量还是光刻胶的质量,都会影响到芯片的制造精度以及成功率,在完成一系列步骤之后,还需要去除芯片上的光刻胶,每一个步骤都会产生一定的损耗,而利用上最新的“光刻”技术,就不会遇到类似的问题。

还有就是光刻技术采用的是极紫外光,而冰刻采用的是电子束,相对而言更加的稳定,加工的精度也会高上不少,在效率上也得到了很大的提升,芯片的集成度也会随之提高,也很好的带动了芯片的性能表现。

有了“冰刻”技术,对国内半导体领域的发展有着很大的促进作用,对于目前“卡脖子”的光刻机,也有了相对应的方向,未来取代光刻机也并非没有可能,国产芯片也将迎来全新的契机,对此你们有什么看法呢?